厭氧處理工藝是漓源環(huán)保在工業(yè)污水處理工程經(jīng)常使用的工藝之一。厭氧處理工藝需要隔斷發(fā)酵系統(tǒng)與空氣中氧的接觸，使發(fā)酵液中盡可能地沒(méi)有溶解氧存在。厭氧環(huán)境是厭氧消化過(guò)程賴以正常進(jìn)行的重要的條件，在實(shí)際運(yùn)行當(dāng)中，系統(tǒng)與空氣的完全隔段能夠保證發(fā)酵具有良好的厭氧環(huán)境。

厭氧環(huán)境的主要標(biāo)志是發(fā)酵液具有較低的氧化還原電位。某種化學(xué)物質(zhì)的氧化還原電位是該物質(zhì)由其還原態(tài)向其氧化態(tài)流動(dòng)的電位差，而一個(gè)體系的氧化還原電位是由該體系中所能形成氧化還原電位的化學(xué)物質(zhì)的存在狀態(tài)決定的。體系中的氧化態(tài)物質(zhì)占比例越高，其氧化化還原電位越高，形成的環(huán)境就越不適于厭氧微生物的生長(zhǎng)，因?yàn)樗纬傻沫h(huán)境是好氧環(huán)境，反之同理。

發(fā)酵系統(tǒng)氧化還原電位升高的原因不僅有有氧進(jìn)入系統(tǒng)的關(guān)系，還有一些氧化劑或氧化態(tài)物質(zhì)存在的關(guān)系，如一些工業(yè)廢水中的鐵離子、酸性廢液中的氫離子等，當(dāng)這些物質(zhì)的濃度達(dá)到一定程度的時(shí)候，同樣會(huì)危害厭氧消化過(guò)程的進(jìn)行，因此，體系中的氧化還原電位更能夠全面的反應(yīng)發(fā)酵液所處的厭氧狀態(tài)。

在厭氧消化處理系統(tǒng)中，產(chǎn)甲烷菌對(duì)氧和氧化還原劑非常的敏感，原因是它不像好氧菌那樣具有過(guò)氧化氫酶，對(duì)厭氧反應(yīng)器內(nèi)介質(zhì)中氧的濃度可以由氧化還原電位來(lái)表示達(dá)。相關(guān)研究表面，產(chǎn)甲烷菌初始繁殖時(shí)所需的環(huán)境條件為氧化還原電位不能高于-330mV。在厭氧消化過(guò)程中，不產(chǎn)甲烷階段可在兼性條件下完成，此時(shí)的氧化還原電位為+0.1~-0.1V；而在產(chǎn)甲烷階段，氧化還原電位必須控制在-0.3~-0.35與-0.56~-0.6V，產(chǎn)甲烷階段氧化還原電位的臨界值為-0.2V。

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